Wiedereinmal war die langjährige Zusammenarbeit des Lehrstuhles für funktionale Werkstoffe und Werkstoffsysteme und den Kollegen des Erich-Schmidt Instituts für Materialphysik von Erfolg gekrönt. Die Arbeit von Zaoli Zhang, Rostislav Daniel und Christian Mitterer über vergleichende Studien von Grenzschichten zwischen harten Nitridschichten der Übergangsmetalle, metallischen Zwischenschichten und Substraten wurde an der Urbino Universität (Italien) im Zuge der „10th Multinational Congress on Microscopy“ als bestes Poster ausgezeichnet. In dieser Studie wurden mittels sphärischer Aberration (CS) korrigierter hochauflösende Transmissionselektronenmikroskopie (HRTEM) und Elektronenenergieverlustspektroskopie (EELS) die Atom- und Elektronenstruktur von CrN/Cr/Si und CrN/Si Grenzflächen untersucht. Durch die Kombination aus fortschrittlicher Mikroskopie und Analysetechnik war es möglich den Ursprung und den Mechanismus des Wachstums von keramischen und metallischen dünnen Schichten und deren Wachstumsbeziehung zum darunterliegenden Substrat zu untersuchen. Der Aufbau von Wissen auf diesem Gebiet ist von großer Bedeutung für das Verständnis der Mikrostruktur auf atomarer Ebene von Schichten und deren Wachstumsbeziehung mit Zwischenschichten bzw. Substraten. Diese Studien sind bedeutend für das grundlegende Struktur-Eigenschafts-Verständnis von Schichten sowie für deren potentielle industrielle Nutzung.