Neue Möglichkeiten zur Funktionalisierung von Oberflächen

Die bislang schon umfangreichen Möglichkeiten des Departments Werkstoffwissenschaft zur Abscheidung dünner Schichten mit Hilfe plasmaunterstützter Verfahren wurden kürzlich nochmals deutlich erweitert. Im Februar wurde eine Vakuumanlage zur Abscheidung von dünnen gesputterten Schichten und von Nanopartikeln in Betrieb genommen. Diese Anlage des Typs Moorfield MiniLab SN125M ist mit einer konventionellen Sputterquelle und einer Nanopartikelquelle des Typs Nikalyte UHV/DX3 ausgestattet. Mit dieser Quelle können Atome von bis zu drei Magnetrons zerstäubt, zu kleinen Clustern agglomeriert und mit Hilfe eines Quadrupol-Massenfilters selektiert und anschließend auf Substraten abgeschieden werden. Diese Nanopartikel mit Durchmessern von 1 bis zu 20 mm können aus Metallen und deren Legierungen bestehen. Typische Anwendungen sind die Entwicklung von antibakteriellen oder antiviralen Oberflächen, selbstreinigenden Oberflächen, die Funktionalisierung von Gassensoren, die Aktivierung von nanoporösen Kohlenstoffen für die Wasserstoffspeicherung sowie der Einbau von Nanopartikeln als Rissstopper oder als Festschmierstoffe in Hartstoffschichten. Des Weiteren wurde im Februar eine Anlage des Typs Diener electronic Tetra 30 zur Modifikation von Oberflächen in nichtreaktiven und reaktiven Plasmen in Betrieb genommen. Diese Anlage soll zur Plasmaexfoliation von Grafit und zur Aktivierung und Funktionalisierung von nanoporösen Kohlenstoffen verwendet werden. Potentielle Anwendungsgebiete sind die Wasserstoffspeicherung, Superkondensatoren, die selektive Gastrennung (Carbon Capture and Storage) und die Wasserreinigung, z.B. die Entsalzung von Meerwasser oder die Filtration von Nanoplastik.